- 产品描述
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- 商品名称: 碳化硅真空烧结炉
- 商品编号: 碳化硅真空烧结炉
用于SiC陶瓷制品的反应烧结、无压烧结、重结晶烧结，也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的烧结。
技术特点
1、采用多温区独立控温，温度均匀性好。
2、可选配外循环快冷系统，单炉生产周期短。
3、可实现正压或负压碳化工艺。
4、对碳化过程产生的焦油、粉尘、尾气等能进行有效处理。
5、电源柜采用全密封结构，机柜自带冷却系统，不与外界空气发生热交换，先进的控温系统，采用进口数显化智能温控表，可与PLC实现数据通讯，触摸屏控制操作界面，全中文温度输入控制，告别繁琐的仪表温度曲线输入，系统可按给定升温曲线升温，并可贮存二十条共400段不同的工艺加热曲线。
技术参数
型号 有效空间 最高温度(℃） 工作温度(℃） 极限真空度(Pa) 真空泄漏率(Pa/h) 温度均温性(℃) 功率(KW) 占地面积(m) CX-S4412 400×400×1200 2400 2300 0.01 1.33 ≤±15 180 5×6×6 CX-S5515 500×500×1500 360 6×7×6 CX-S6618 600×600×1800 640 7×8×6 CX-S1015 1000×1000×1500 1800 1700 180 5×6×6 CX-81320 1300×1300×2000 360 6×7×6 CX-S1530 1500×1500×300 640 7×8×3.5
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